ElPall GLFPF3000VMF4Se trata de un filtro de gas en línea de ultra alta pureza, diseñado específicamente para la filtración en el punto de uso en líneas de gas para procesos de semiconductores y microelectrónica. Cuenta con una carcasa de acero inoxidable 316L electropulido con un acabado superficial interno superior que evita el desprendimiento de partículas. En su interior, alberga un elemento filtrante de fluoropolímero que ofrece una compatibilidad química excepcional con gases especiales inertes, tóxicos y altamente corrosivos.

tú Características eléctricas: 0 A / 0 V

tú Presión máxima de funcionamiento: 20,7 MPa a 121 °C

tú Temperatura máxima de funcionamiento: 121 °C (250 °F)

tú Perfiles de desgasificación:

tú Conexión de montaje: 1/4" VCR (junta de sellado)

❖ Fabricación de obleas semiconductoras: Se instala directamente en los puntos de uso de las herramientas para eliminar la contaminación por partículas submicrométricas procedentes de los gases críticos utilizados en los procesos de deposición, grabado y fotolitografía.

❖ Armarios de gas de ultra alta pureza (UHP): Integrados en colectores de suministro de gas a granel, paneles de purga y armarios de gas que manejan gases altamente reactivos, corrosivos o tóxicos.

❖ Aislamiento de instrumentación en salas blancas: Protección de controladores de flujo másico (MFC) de alta precisión, reguladores de presión e instrumentos de análisis por detección de partículas provenientes de la entrada de muestras.

FS-TSDO-04UNI

F2DO1602

NFBU200-S05 S2

9907-018

FS-IOBUS-CPIO

F8650X

NFCCC01

5438-667

FC-QPP-0001 V1.3

HIMAX X-CPU01

AAI135-H00 S1

5462-916

FC-USI-0001 V1.3

F60CPU03

CP401-10 S1

5464-211

FS-TSGAS-1624

F3 AIO 84 01

NFBU200-S05 S2

5464-334

FS-IOBUS-CPIO

Z7126

NFCP100-S05 S3

5501-380

51305072-600

HIMatrix F35 011 30

PW482-51 S2

8400-016

51196041-100

HIMatrix F35 010 30

ADV551-P50 S2

5437-672